Polvo de sílice fundida inerte

Polvo de sílice fundida inerte
Detalles:
El polvo de sílice fundida inerte se produce fundiendo arena de cuarzo de alta-pureza en un horno de arco eléctrico a temperaturas superiores a 2000 grados, seguido de enfriamiento con agua, trituración, molienda y clasificación para formar un polvo de dióxido de silicio amorfo. La diferencia fundamental con respecto al polvo de sílice ordinario molido a partir de cuarzo cristalino radica en su estructura interna: cambia de una estructura cristalina ordenada a una estructura amorfa (vítrea) desordenada. Esta transformación estructural aporta su combinación única de propiedades.
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Descripción
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El polvo de sílice fundida inerte se produce fundiendo arena de cuarzo de alta-pureza en un horno de arco eléctrico a temperaturas superiores a 2000 grados, seguido de enfriamiento con agua, trituración, molienda y clasificación para formar un polvo de dióxido de silicio amorfo. La diferencia fundamental con respecto al polvo de sílice ordinario molido a partir de cuarzo cristalino radica en su estructura interna: cambia de una estructura cristalina ordenada a una estructura amorfa (vítrea) desordenada. Esta transformación estructural aporta su combinación única de propiedades.


En primer lugar, la ventaja más destacada es el coeficiente de expansión térmica extremadamente bajo. El coeficiente de expansión térmica del cuarzo fundido es sólo aproximadamente una-vigésima parte del del cuarzo cristalino ordinario, o incluso menor, muy cercano al del silicio monocristalino. Esto hace que el polvo de sílice fundida inerte sea un relleno ideal para materiales de embalaje electrónicos, ya que previene eficazmente el daño a los chips semiconductores de precisión causado por el estrés térmico debido a los cambios de temperatura. En segundo lugar, tiene una excelente estabilidad térmica y resistencia a altas-temperaturas, con una temperatura de servicio a largo plazo-de hasta 1000 grados. En tercer lugar, su pureza química es extremadamente alta; después de la fusión a alta-temperatura, se eliminan muchas impurezas volátiles, y el contenido de SiO2 suele alcanzar más del 99,9 %. Además, su rendimiento de aislamiento eléctrico es excelente, con constante dieléctrica y factor de disipación bajos. Por lo tanto, el polvo de sílice fundida inerte se usa ampliamente en CCL de alta-frecuencia, empaques de circuitos integrados-a gran escala, placas de cubierta de vidrio fotovoltaico, componentes de aislamiento eléctrico de alto-voltaje, dispositivos ópticos de precisión y materiales refractarios avanzados. Es el material fundamental para la fabricación de productos electrónicos y eléctricos de alto-rendimiento y alta-confiabilidad.
 

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